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플라즈마 환경

플라즈마 환경

플라즈마는 크게 플라즈마를 생성할 가스와 사용할 플라즈마의 종류에 따라 나눌 수 있습니다.
가스로는 주로 산소계와 불소계로 나눌 수 있고, 종류로는 화학적 특성을 지닌 라디칼과 물리적 특성을 지닌 이온으로 나눌 수 있습니다.
플라즈마 이온 및 라디칼은 O-RING에 영향을 미쳐 Etch 및 Sealing 성능을 유지시킬 수 있는 다양한 재질을 제공하고 있습니다.

 
 
TechRes® IP40N 메탈성분을 최소화한 나노 필러를 적용하여, 고순도를 요하는 반도체 산업에서 안정적인 씰링 기능을 나타내는 다크브라운 색상의 과불화탄성체 / 다만 고온의 NF3 공정에는 주의를 요함 Download
TechRes® IP68 플라즈마에 대한 저항성이 우수하여 백색 재질의 FFKM 중에서 플라즈마 에칭 등, 내열성 및 내화학성에 가장 적합 Download
TechRes® IP28 물리적, 화학적 플라즈마에 균형 잡힌 저항성 / 고밀도 플라즈마 화학증착 공정 등에 사용 Download
TechRes® IP22 NF3 & 산소계 고밀도 플라즈마에 우수한 저항성 / 클리닝 가스에 대한 낮은 파티클의 특성 Download
Tranva® 9671 초고순도 제품 / 파티클 발생 최소화 / 넓은 범위의 화학적 호환성 / 고밀도 플라즈마 공정 등에 사용 Download
Tranva® 1077 낮은 금속 이온 함유 / 표면의 낮은 부식으로 오염의 최소화 / 반도체나 FPD산업을 위해 설계 Download